このウェブサイトはJavaScriptを有効にしてご覧ください。

主な現有装置

化学気相蒸着装置(常圧)

固体原料を気化させて、反応領域に輸送する。
反応領域を高温にしておくことで薄膜やナノワイヤを作製できる。

マイクロ波プラズマ化学気相蒸着装置(減圧)

マイクロ波を用いて反応ガス種をプラズマ化(活性化)させる。
ダイヤモンドやcBN(立方晶窒化ホウ素)などの準安定相を合成できる。

超高真空蒸着装置 (有機・無機MBE)

チャンバー内を超高真空に保ち、原料を加熱し蒸着を行う。
ナノメートルオーダーの金属や酸化物の多層膜を作製できる。

RFプラズマ化学気相蒸着装置

高周波を用いて反応ガス種をプラズマ化(活性化)させる。
DLC(無定形炭素)やカーボンナノチューブを合成できる。

グローブボックス

水分と酸素を除去した窒素雰囲気を作り出す。
これにより反応性の高いナトリウム等を取り扱うことができる。

高周波炉

高周波を利用し短時間で超高温(~2600℃)に加熱することができる。
これを利用し焼結体を作製することができる。

磁気Kerr効果測定装置

磁性体に外部磁場を加え直線偏光を入射させると、反射光は偏光が傾いたり楕円偏光になる
これを磁気Kerr効果と呼ぶ。その効果を用いてヒステリシスループを得ることができる。

プローバー

簡易的な電気特性を測ることができる。

クライオスタット

室温から4 Kまで温度制御をしつつ、電気特性を測ることができる。

キュービックアンビル型超高圧装置

試料に準静水圧条件下で超高圧(最大約5GPa)をかけることができる。

低温強磁場STM

FE-SEM

XPS

パルスレーザー蒸着装置

その他共通機器多数