主な現有装置
化学気相蒸着装置（常圧）
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固体原料を気化させて、反応領域に輸送する。
反応領域を高温にしておくことで薄膜やナノワイヤを作製できる。
マイクロ波プラズマ化学気相蒸着装置（減圧）
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マイクロ波を用いて反応ガス種をプラズマ化（活性化）させる。
ダイヤモンドやcBN(立方晶窒化ホウ素)などの準安定相を合成できる。
超高真空蒸着装置 （有機・無機ＭＢＥ）
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チャンバー内を超高真空に保ち、原料を加熱し蒸着を行う。
ナノメートルオーダーの金属や酸化物の多層膜を作製できる。
RFプラズマ化学気相蒸着装置
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高周波を用いて反応ガス種をプラズマ化（活性化）させる。
DLC（無定形炭素）やカーボンナノチューブを合成できる。
グローブボックス
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水分と酸素を除去した窒素雰囲気を作り出す。
これにより反応性の高いナトリウム等を取り扱うことができる。
高周波炉
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高周波を利用し短時間で超高温(～2600℃)に加熱することができる。
これを利用し焼結体を作製することができる。
磁気Kerr効果測定装置
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磁性体に外部磁場を加え直線偏光を入射させると、反射光は偏光が傾いたり楕円偏光になる
これを磁気Kerr効果と呼ぶ。その効果を用いてヒステリシスループを得ることができる。
プローバー
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簡易的な電気特性を測ることができる。
クライオスタット
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室温から4 Kまで温度制御をしつつ、電気特性を測ることができる。
キュービックアンビル型超高圧装置
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試料に準静水圧条件下で超高圧（最大約5GPa）をかけることができる。
低温強磁場ＳＴＭ
FE-SEM
XPS
パルスレーザー蒸着装置
その他共通機器多数